外国在华专利与中国数字经济企业创新——基于技术垄断和技术外溢的双重视角
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【作者】杨珍增1 郎倩文2 陈 影1
1:天津财经大学 经济学院 2:南开大学 经济学院
【摘要】本文基于异质性企业模型和知识生产模型,实证研究了外国在华专利影响中国数字经济企业创新的技术垄断和技术外溢效应。研究发现:外国在华专利渗透率提高对中国数字经济企业的创新概率具有显著的抑制作用,呈现明显的技术垄断效应;外国在华专利数量提升对中国数字经济企业专利数量具有显著的促进作用,呈现明显的技术外溢效应。这两种效应在东部地区表现更强,在国有企业与非国有企业之间存在明显差异。本文研究能够为中国制度型开放和促进数字经济创新政策的制定提供参考。
【关键词】外国在华专利;技术外溢;技术垄断;数字经济;创新
【目录】
引言
一、文献综述
二、理论分析与待检验命题
三、典型化事实
四、模型、变量与数据
五、经验检验结果
六、异质性检验
七、结论及政策建议
【作者简介】
杨珍增(通讯作者) 男 河北南皮人 天津财经大学经济学院教授
郎倩文 女 山西汾阳人 南开大学经济学院博士研究生
陈 影 女 河南驻马店人 天津财经大学经济学院博士研究生